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碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化鎵

更新時間:2025-06-17 04:41:04 責(zé)任編輯:未填 瀏覽數(shù):131 環(huán)球冶金網(wǎng) 移動網(wǎng)頁版

核心提示:傾佳電子(Changer Tech)-專業(yè)汽車連接器及功率半導(dǎo)體(SiC單管,SiC模塊,驅(qū)動IC)分銷商,聚焦新能源、交通電動化、數(shù)字化轉(zhuǎn)型三大方向,致力于服務(wù)中國工業(yè)電源,電力電子裝備及新能源汽車產(chǎn)業(yè)鏈。傾佳電子(Changer Tech)致力于SiC模塊在電力電子應(yīng)用中全面取代IGBT模塊,SiC單管在電力電子應(yīng)用中全面取代IGBT單管,650

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BASiC國產(chǎn)SiC碳化硅MOSFET分立器件及碳化硅功率SiC模塊介紹_22
 
為什么基本公司650V SiC碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化鎵器件?
 
在現(xiàn)代電力電子領(lǐng)域,器件的選擇對于系統(tǒng)性能至關(guān)重要。基本公司650V SiC(碳化硅)MOSFET作為一種新型的功率半導(dǎo)體器件,正在逐步取代傳統(tǒng)的超結(jié)MOSFET和GaN(氮化鎵)器件。這一現(xiàn)象背后,蘊含著材料科學(xué)、電子工程和電力電子技術(shù)的深刻變革。本文將從多個維度深入探討650V SiC MOSFET為何能夠成為超結(jié)MOSFET和GaN器件的有力競爭者。
 
首先,從材料特性上看,SiC具有顯著的優(yōu)勢。SiC的禁帶寬度是硅的3倍,導(dǎo)熱率為硅的4-5倍,擊穿電壓為硅的8-10倍,電子飽和漂移速率為硅的2-3倍。這些優(yōu)異的物理特性使得SiC器件在高溫、高壓、高頻應(yīng)用中表現(xiàn)出色。相比之下,傳統(tǒng)的硅基超結(jié)MOSFET雖然在制造工藝和結(jié)構(gòu)上有所創(chuàng)新,但在材料本身的限制下,其性能提升已接近極限。而GaN器件雖然也具有較高的電子遷移率和飽和漂移速度,但其生長工藝復(fù)雜,成本高昂,且在高溫長時間續(xù)流情況下,反向電流能力急劇下降,限制了其廣泛應(yīng)用。
 
基本公司650V SiC MOSFET的高溫穩(wěn)定性尤為突出。在高溫環(huán)境下,SiC器件的導(dǎo)通電阻上升幅度遠小于硅基器件,這意味著在高溫應(yīng)用中,SiC MOSFET能夠保持較低的導(dǎo)通損耗,提高系統(tǒng)效率。而超結(jié)MOSFET雖然也具有一定的高溫穩(wěn)定性,但在極高溫度下,其RDS(ON)(導(dǎo)通電阻)的上升會對散熱提出更高要求。此外,SiC MOSFET的Ciss(輸入電容)明顯小于超結(jié)MOSFET,這使得SiC MOSFET的關(guān)斷延時更小,更適合于高頻率的開關(guān)應(yīng)用。
超結(jié) (Super Junction, SJ) MOSFET 固有器件弱點在算力電源,AI電源,雙向逆變器等要求越來越高的應(yīng)用場合,客戶的應(yīng)用痛點越來越突出:
超結(jié) (Super Junction, SJ) MOSFET復(fù)雜制造工藝問題: 超結(jié) MOSFET 的結(jié)構(gòu)復(fù)雜,需要在制造過程中精確控制摻雜濃度和梯度,這使得生產(chǎn)難度加大,成本較高。
超結(jié) (Super Junction, SJ) MOSFET熱穩(wěn)定性問題: 盡管其導(dǎo)通電阻在常溫下較低,但超結(jié) MOSFET 的導(dǎo)通電阻在高溫環(huán)境中會顯著上升,這可能導(dǎo)致效率降低和散熱問題。
超結(jié) (Super Junction, SJ) MOSFET開關(guān)速度問題: 相較于SiC MOSFET,超結(jié) MOSFET 的開關(guān)速度稍顯遜色,在高頻應(yīng)用中可能不如這些競爭對手表現(xiàn)優(yōu)異。
超結(jié) (Super Junction, SJ) MOSFET寄生電容影響問題: 超結(jié) MOSFET 的寄生電容較大,特別是輸入電容,對高頻開關(guān)性能會有一定影響,增加了驅(qū)動電路的復(fù)雜性。
超結(jié) (Super Junction, SJ) MOSFET應(yīng)力敏感性問題: 由于其超結(jié)結(jié)構(gòu)的特性,應(yīng)力分布不均可能導(dǎo)致器件在高壓或瞬態(tài)電壓條件下產(chǎn)生較高的電場峰值,增加器件故障風(fēng)險。
 
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在開關(guān)損耗方面,SiC MOSFET同樣展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢。由于SiC材料的高電子飽和漂移速度和低介電常數(shù),SiC MOSFET的開關(guān)速度極快,開關(guān)損耗極低。相比之下,雖然GaN器件也具有極快的開關(guān)速度,但在實際應(yīng)用中,由于GaN的驅(qū)動電路面臨著高頻響應(yīng)、電壓應(yīng)力、熱穩(wěn)定性等挑戰(zhàn),其開關(guān)損耗的優(yōu)勢并不總是能夠充分發(fā)揮。特別是在硬開關(guān)長時間續(xù)流的電源應(yīng)用,GaN的反向電流能力急劇下降,所以不得不選用更大余量的GaN器件,相對成熟且成本持續(xù)下降的的SiC MOSFET,GaN器件性價比進一步惡化。
隨著設(shè)備和工藝能力的推進,更小的元胞尺寸、更低的比導(dǎo)通電阻、更低的開關(guān)損耗、更好的柵氧保護是SiC碳化硅MOSFET技術(shù)的主要發(fā)展方向,體現(xiàn)在應(yīng)用端上則是更好的性能和更高的可靠性。
GaN氮化鎵器件面臨散熱管理困難: GaN 器件雖然可以在高溫下工作,但其相對較低的熱導(dǎo)率給散熱管理帶來一定挑戰(zhàn),增加了系統(tǒng)設(shè)計的復(fù)雜性。
GaN氮化鎵器件面臨可靠性問題: GaN 器件在長時間高功率運行情況下的可靠性還有待進一步驗證,特別是在極端環(huán)境下的穩(wěn)定性方面仍需更多研究。GaN氮化鎵器件面臨材料缺陷敏感性: GaN 的材料缺陷對器件性能影響較大,制造過程中需嚴格控制材料質(zhì)量,增加了制造難度。GaN氮化鎵器件面臨單粒子效應(yīng) (SEE): 在空間和高輻射環(huán)境下,GaN 器件容易受到單粒子效應(yīng)的影響,可能導(dǎo)致失效。
 
 
BASiC基本公司為SiC碳化硅功率器件全面取代IGBT和超結(jié)MOS提供驅(qū)動芯片及驅(qū)動供電解決方案
 
BASiC基本公司針對多種應(yīng)用場景研發(fā)推出門極驅(qū)動芯片,可適應(yīng)不同的功率器件和終端應(yīng)用。BASiC基本公司的門極驅(qū)動芯片包括隔離驅(qū)動芯片和低邊驅(qū)動芯片,絕緣最大浪涌耐壓可達8000V,驅(qū)動峰值電流高達正負15A,可支持耐壓1700V以內(nèi)功率器件的門極驅(qū)動需求。
BASiC基本公司低邊驅(qū)動芯片可以廣泛應(yīng)用于PFC、DCDC、同步整流,反激等領(lǐng)域的低邊功率器件的驅(qū)動或在變壓器隔離驅(qū)動中用于驅(qū)動變壓器,適配系統(tǒng)功率從百瓦級到幾十千瓦不等。
BASiC基本公司推出正激 DCDC 開關(guān)電源芯片BTP1521xx,該芯片集成上電軟啟動功能、過溫保護功能,輸出功率可達6W。芯片工作頻率通過OSC 腳設(shè)定,最高工作頻率可達1.5MHz,非常適合給隔離驅(qū)動芯片副邊電源供電。
 
 
 
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咬住必然,勇立潮頭!BASiC基本公司代理商傾佳電子楊茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三個必然,勇立功率半導(dǎo)體器件變革潮頭:
 
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為了保持電力電子系統(tǒng)競爭優(yōu)勢,同時也為了使最終用戶獲得經(jīng)濟效益,一定程度的效率和緊湊性成為每一種電力電子應(yīng)用功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用的優(yōu)勢所在。隨著IGBT技術(shù)到達發(fā)展瓶頸,加上SiC MOSFET絕對成本持續(xù)下降,使用SiC MOSFET替代升級IGBT已經(jīng)成為各類型電力電子應(yīng)用的主流趨勢。
碳化硅MOSFET全面取代超結(jié)MOSFET和高壓GaN氮化鎵:http://m.conform2scorm.com/news/781824.html
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閱讀下文 >> 防火巖棉復(fù)合板在行業(yè)中的應(yīng)用

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